• Esileht
  • Uudised
  • BENY ilmus suurepäraselt 2017. aasta Shanghai SNECi fotogalvaanilisele näitusele!

BENY ilmus suurepäraselt 2017. aasta Shanghai SNECi fotogalvaanilisele näitusele!

11. (2017) SNEC rahvusvaheline päikeseenergia tööstuse ja fotogalvaanilise inseneri (Shanghai) näitus peeti edukalt Shanghai New International Expo Centeris 19. aprillist 21. aprillini 2017. Ettevõte on sellel valdkonna üritusel osalenud neljandat aastat järjest. Sellel näitusel Zhejiang BenyMa mitte ainult ei eksponeerinud ettevõtte tavapäraseid põhitooteid, nagu alalisvoolu kaitselülitid ja alalisvoolu lahtiühendamislülitid, vaid tõin turule ka ettevõtte äsja väljatöötatud DC1500V seeria fotogalvaanilised spetsiaalsed alalisvoolu elektritooted. Tooted, näitusepaiga atmosfäär on väga kuum ja paljud külastajad väljendasid Zhejiangi täielikku kinnitust BenyMul on tugev teadus- ja arendustegevuse tugevus, kui nad tooteid külastasid.

BENY on pühendunud pakkuma kõige turvalisemaid ja usaldusväärsemaid alalisvoolupoolseid jõuülekande- ja jaotuslahendusi fotogalvaanilistele süsteemidele! Kohtumiseni 2018. aasta Shanghai SNECi fotogalvaanikanäitusel!

17 1
17 3
17 4
17 5

Seonduvad postitused

Imeline! Jaga seda juhtumit:

Rääkige meie eksperdiga